Sputter 磁控濺射系列機台

1.磁控靶槍可制化、數量可根據需求定制

2.生長材料：金屬、氧化物、氮化物、半導體化合物等

3.尺寸定制，整片以(yǐ)及碎片膜層生長

4.Load-Lock 雙腔，快速到(dào)達本底真空

5.加熱溫度：室溫-400℃（溫度可定制）

6.具備預清洗功能

7.配置兩路工藝氣體：可根據客戶需求定制

8.可自由調節靶基距及角度

9.軟硬件互鎖機制

10.基于(yú) Windows 操作軟件，具備系統監測、工藝編輯、參數顯示等功能，具備儲存工藝日志和(hé / huò)操作記錄的(de)能力